1.3???????? 打底靠拋光??
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微切片過(guò)程需先經(jīng)粗磨細(xì)磨接近孔心之平面后，才可仔細(xì)拋光。之后再經(jīng)小心微蝕，其整個(gè)畫(huà)面才能看得眉清目秀纖毫畢露。以下即為筆者的制作經(jīng)驗(yàn)。??
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1、?? 研 磨 過(guò) 程??
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將灌膠硬化后的切樣，先用120號(hào)圓形粗砂紙使平貼在旋轉(zhuǎn)磨盤(pán)上，配合細(xì)小沖水之動(dòng)作(可沖掉殘粉并能減熱)，將之削磨接近孔體軸心的平面時(shí)，即換成600號(hào)與1200號(hào)較細(xì)的砂紙?jiān)龠M(jìn)行修平，最后用2400號(hào)盡量將小的砂痕去掉。在研磨過(guò)程中需不斷的改換方向及放大觀(guān)察，以免磨歪或磨過(guò)頭。當(dāng)然也可改用其他方式去研磨，只要到達(dá)目的就好。??
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研磨的要點(diǎn)是：對(duì)孔壁而言其截面必須落在孔心平面之附近，必須要兩壁平行，必須要消除大多數(shù)砂痕。??
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2、拋 光 手 法??
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采用專(zhuān)用可吸水的厚氈，以背膠牢貼于圓形轉(zhuǎn)盤(pán)上，在滴水打濕的表面涂均拋光膏，一般可用0.5μ或1μ的白色氧化鋁專(zhuān)用拋光膏。在3000rpm的轉(zhuǎn)速下，手執(zhí)切樣不斷變換方向進(jìn)行輕壓式拋光。同時(shí)也要用放大鏡隨時(shí)觀(guān)察其截面狀況。當(dāng)拋光面非常光亮全無(wú)刮痕之時(shí)，即表任務(wù)已達(dá)成。不過(guò)最清晰的畫(huà)面還要再經(jīng)手動(dòng)細(xì)拋，如利用男性汗衫的針織布，涂上油性的細(xì)質(zhì)拋光膏，手執(zhí)切樣輕壓在布面上來(lái)回拋光多次，唯有如此才能看清紗束中歷歷可數(shù)的玻璃絲。到達(dá)此境界再與同業(yè)相互印證時(shí)，才體會(huì)到手法高下如何，也才品位得出成就感的快樂(lè)。不過(guò)此種做法卻非常耗時(shí)，而且還需要很大的耐心才行。??
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圖 1.200X之孔壁其板材中7628與1080之玻纖清晰可數(shù)，孔環(huán)與孔壁之殘余膠渣亦極明顯。右為400X之金手指，不但7628玻纖清楚，連鍍金層都難逃法眼。??
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圖 2.此為十八年前的四層板，內(nèi)層為五張7628的雙面薄板(.039 1/1)，外層系采用兩張單面銅箔的薄基板(2113*2+1oz Foil)。然后下上各用兩張1080膠片去壓合。彼時(shí)多層板 極少，故各銅層均采單面或雙面薄板去壓合。直到1985年個(gè)人電腦大起后，才流行用 銅皮壓合的Mass Lam。此200X圖面可清楚分辦各種材料的組合，唯有小必拋光及微蝕才能得此佳績(jī)。??
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圖 3.此亦為古董四層板，除了外層單面板比上圖稍厚外，亦改用3張1080的膠片，此等切 片不但要用自動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)去拋光，最后還要用油膏在棉布上往復(fù)來(lái)回以手動(dòng)方式去小心輕壓慢拋，才能得如此清楚的200X畫(huà)面。本圖尚可見(jiàn)到一銅表面上的干膜阻劑，并請(qǐng)注意四個(gè)角落圓形包圍的黑影，那是早年試樣倒立顯微鏡攝影的特征.??
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圖 4.左上200X漂錫圖為早期鉆孔不良的雙面板，由于鉆針尖面的切削刃口(Cuting Lip)發(fā)生崩刃而不利，與外線(xiàn)的刃角(Corner)變圓變鈍，致使高速旋切中縫此畫(huà)面時(shí)，撞崩其瞬間縱向的玻纖束而造成挖破缺口，使得彼時(shí)性能尚差的酸性鍍銅未能及時(shí)填平，以致 造成所謂的孔銅破洞(雖未見(jiàn)底亦稱(chēng)Void,美軍規(guī)范MIL-P-5511OE規(guī)定凡孔銅厚度低于0.?? 8mil者即稱(chēng)為Void) 右二圖均為500X深孔中心之銅壁切片(孔徑9.8mil，縱橫比8/1)；右上為大板面(20cm*34cm)之板邊銅厚度，下為同一樣板中央的孔銅厚度，其一銅與二銅作業(yè)分別為13AF/45分鐘，已經(jīng)如此慢工細(xì)活尚有35％的厚度落差，若采正常電流25ASF時(shí)，其差距更不知伊於胡底。??
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圖 5.此二圖均為200X仔細(xì)拋光的畫(huà)面。左為自動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)與毛氈以三氧化二鋁拋光稀膏所得之 鏡頭，若再用用手動(dòng)往復(fù)輕拋1-2分鐘即得右圖之眉清目秀畫(huà)面矣。