ASML已完成制造1nm芯片的EUV光刻機(jī)的設(shè)計(jì)方案
論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。
至少就目前而言，ASML對(duì)于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規(guī)劃，且1nm時(shí)代的光刻機(jī)體積將增大不少。
據(jù)稱在當(dāng)前臺(tái)積電、三星的7nm、5nm制造中已經(jīng)引入了NA=0.33的EUV曝光設(shè)備，2nm之后需要更高分辨率的曝光設(shè)備，也就是NA=0.55。好在ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)（即NXE：5000系列），預(yù)計(jì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。
至于上文提到的尺寸為何大幅增加就是光學(xué)器件增大所致，潔凈室指標(biāo)也達(dá)到天花板。
阿斯麥目前在售的兩款極紫外光刻機(jī)分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，3600D計(jì)劃明年年中出貨，生產(chǎn)效率將提升18%。
責(zé)編AJX
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
芯片
+關(guān)注
關(guān)注
459文章
52449瀏覽量
439915 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
725瀏覽量
42247 -
EUV光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
129瀏覽量
15487
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，日前，ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。
發(fā)表于 06-29 06:39
?1219次閱讀
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費(fèi)試用
，或者M(jìn)DP軟件。
現(xiàn)有可免費(fèi)試用的光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件，可實(shí)現(xiàn)最高1nm精度的大型圖形轉(zhuǎn)換，同時(shí)只需要的少量的電腦內(nèi)存就可以運(yùn)行。如需要請(qǐng)聯(lián)系我，謝謝！
發(fā)表于 05-02 12:42
成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲，后市迎來機(jī)會(huì)
【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場(chǎng)對(duì)
不只依賴光刻機(jī)！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者
? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的
芯片制造:光刻工藝原理與流程
光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細(xì)介紹，包括原理和具體步驟。??
光刻機(jī)的分類與原理
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道
組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原
日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外
用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)
光刻機(jī)的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)：
光刻機(jī)巨頭拋出重磅信號(hào) 阿斯麥（ASML）股價(jià)大幅上漲
在2024年投資者會(huì)議上，光刻機(jī)巨頭拋出重磅利好；緊接著ASML股價(jià)開始大幅拉升；一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會(huì)議上宣布，預(yù)計(jì)2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營(yíng)收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)
1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī)，加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道，三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款Hi
發(fā)表于 10-31 10:56
?1040次閱讀
光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML股價(jià)暴跌16.26%創(chuàng)最大的單日跌幅
在當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績(jī)報(bào)告；訂單量環(huán)比下降53%，?業(yè)績(jī)爆雷第一時(shí)間反應(yīng)到ASML公司的股價(jià)暴跌。 在美股市場(chǎng)，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論