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羅姆為英偉達800V HVDC架構提供高性能電源解決方案

羅姆半導體集團 ? 來源: 羅姆半導體集團 ? 2025-06-25 19:45 ? 次閱讀
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隨著人工智能持續重新定義計算的邊界,為這些進步提供動力的基礎設施也必須同步發展。作為功率半導體技術領域公認的領導者,羅姆很榮幸成為支持英偉達全新800V高壓直流(HVDC)架構的主要硅供應商之一。這標志著數據中心設計的關鍵轉變,使兆瓦級人工智能工廠變得更加高效、可擴展和可持續。

羅姆不僅提供硅(Si)功率元器件,還擁有包括碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等寬禁帶半導體在內的豐富產品陣容,可為數據中心的設計提供更優解決方案。

得益于極高的成本效益和可靠性,Si MOSFET已被廣泛應用于汽車和工業設備市場的電力轉換。Si MOSFET憑借其在價格、效率和可靠性之間的良好平衡也適用于當前AI基礎設施的升級。

羅姆的Si MOSFET代表產品“RY7P250BM”被全球云平臺企業認證為推薦器件。該產品作為一款為AI服務器必備的熱插拔電路專門設計的48V電源系統用100V功率MOSFET,以8080的小型封裝實現業界超寬的SOA(安全工作區),并實現僅1.86mΩ的超低導通電阻。在要求高密度和高可用性的云平臺中,有助于降低電力損耗并提升系統的可靠性。

SiC元器件的優勢在于可降低工業等領域中高電壓、大電流應用的損耗。英偉達800V HVDC架構旨在為功率超過1MW的服務器機架供電,這對于推進其大規模部署計劃也起著至關重要的作用。這一新型基礎設施的核心在于可將電網的13.8kV交流電直接轉換為800V的直流電。而傳統的54V機架電源系統除了受物理空間限制(要滿足小型化需求)外,還存在銅材使用量大、電力轉換損耗高等問題。

羅姆的SiC MOSFET在高電壓、大功率環境下可發揮出卓越性能,不僅能通過降低開關損耗和導通損耗來提高效率,還以超小體積實現了滿足高密度系統設計要求的高可靠性。這些特性恰好與英偉達800V HVDC架構所追求“減少銅材使用量”、“將能量損耗最小化”以及“簡化數據中心整體的電力轉換”等需求相契合。

另外,作為對SiC產品的補充,羅姆同時還積極推進GaN技術研發,現已推出EcoGaN系列產品,包括150V和650V耐壓的GaN HEMT、柵極驅動器以及集成了這些器件的Power Stage IC。SiC在高電壓、大電流應用中表現出色,而GaN則在100V~650V電壓范圍內性能優異,具有出色的介電擊穿強度、低導通電阻以及超高速開關特性。此外,在羅姆自有的Nano Pulse Control技術的加持下,其開關性能得到進一步提升,脈沖寬度可縮短至最低2ns。這些產品充分滿足AI數據中心追求小型化和高效率電源系統的需求。

除功率器件外,羅姆還推出搭載第4代SiC芯片的頂部散熱型HSDIP20等高輸出功率SiC模塊產品。這些1200V SiC模塊已面向LLC方式的AC-DC轉換器和一次DC-DC轉換器進行了優化,可實現高效率、高密度的電力轉換。憑借其卓越的散熱性與可擴展性,成為英偉達架構所預想的800V輸配電系統等兆瓦級以上AI工廠的上佳之選。

800V HVDC基礎設施的實現,需要全行業的協同合作。羅姆作為實現下一代AI工廠的重要合作伙伴,不僅與英偉達等業界領導者保持緊密協作,還將與數據中心運營商及電源制造商開展深度合作。通過提供羅姆尤為擅長的SiC和GaN等寬禁帶半導體的先進技術,為構建可持續且高能效的數字化社會貢獻力量。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:新聞 | 羅姆為英偉達800V HVDC架構提供高性能電源解決方案

文章出處:【微信號:羅姆半導體集團,微信公眾號:羅姆半導體集團】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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