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上海屹持光電技術(shù)有限公司

紅外觀察儀、飛秒激光器、太赫茲相機、太赫茲光譜儀  

217 內(nèi)容數(shù) 5.7w 瀏覽量 18 粉絲

高阻抗本征硅

型號: HRFZ-Si

--- 產(chǎn)品詳情 ---

產(chǎn)品簡介     

      除了人造金剛石,高阻抗的本征硅(高阻硅)材料是適合極寬范圍從(1.2 μm) 到mm (1000 μm甚至8000 μm)波的各項同性晶體材料。和鉆石相比,它要便宜的多,并且生長制造更容易。而且他尺寸更大,更容易制造,THz技術(shù)的快速發(fā)展,就基于該優(yōu)點。對于THz應(yīng)用,我們提供在1000 μm (對于更長波長,3000甚至8000微米)透過率達到50-54%的High Resistivity Float Zone Silicon (HRFZ-Si)。高阻抗浮區(qū)本征硅材料,和相關(guān)光學元件。


 

      合成電解質(zhì)硅的介電常數(shù)由傳導率決定(例如:自由電子-載流子濃度)。圖3顯示的是在1THz下,不同純度下的硅的介電常數(shù).低摻雜的介電常數(shù)接近真實值,大約等于高頻介電常數(shù)。隨著摻雜濃度的提高,真實的介電常數(shù)將變成負數(shù),而且不能被忽略。介電常數(shù)表征的是THz波的傳輸損耗特性。損耗系數(shù)可以用下面的公式計算:tanδ=1/(ω*εv*ε0*R), 這里 ω – 圓頻率, εv – 真空下的介電常數(shù)(8.85*10-12 F/m)。ε0 –硅的介電常數(shù)(11.67), R是電阻值。例如,1THz下,10 kOhm 阻值的HRFZ-Si損耗系數(shù)為1.54*10-5。
 


 

1mm厚度的高阻抗本征硅窗片的太赫茲時域光譜儀測試數(shù)據(jù)

高阻抗本征硅產(chǎn)品

- 高阻抗硅襯底/基片/窗片

- 高阻抗硅球透鏡

- 高阻抗硅分束鏡

- 高阻抗硅鏡頭

 

1,高阻硅基片                                    2,高阻硅F-P標準具 

 

3,高阻硅太赫茲半球透鏡                                4,高阻硅太赫茲子彈型透鏡

  

5,高阻硅鏡頭                                                   6,高阻硅棱鏡

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