資料介紹
超大規模集成電路技術系統地介紹了超大規模集成電路工藝理論和工藝方法。全書共九章,包括光刻、摻雜、氧化及熱處理、薄膜工藝基礎與物理氣相沉積、化學汽相沉積、刻蝕、平坦化與多重內連線工藝及超大規模集成電路工藝匯總等。重點介紹亞微米、半亞微米前道加工技術及相關工藝設備,也介紹了特征尺寸達到0.18μm、硅圓晶片直徑為300mm(12英寸)及256Mb DRAM的有關動態。
本書可作為高等院校半導體、電子工程、固體物理等相關專業的教材或教學參考書,也可供從事超大規模集成電路研究、生產的科技人員及超大規模集成電路生產設備的研究、生產,技術支持人員參考。
"超大規模集成電路技術基礎"的圖書目錄……緒論
第一章 硅的晶體結構
第二章 光刻
第三章 摻雜
第四章 氧化及熱處理
第五章 薄膜工藝基礎與物理氣相沉積
第六章 化學汽相沉積(VCD)
第七章 刻蝕
第八章 平坦化及多重內連線工藝
第九章 超大規模集成電路工藝匯總
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