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半導體清洗工藝全集
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晶圓清洗是半導體制造典型工序中最常應用的加工步驟。就硅來說，清洗操作的化學制品和工具已非常成熟，有多年廣泛深入的研究以及重要的工業(yè)設備的支持。所以，硅清洗技術在所有具實際重要性的半導體技術中是最為成熟的。第一個完整的、基于科學意義上的清洗程序在1970年就提出了，這是專門設計用于清除Si表面的微粒、金屬和有機污染物。
此后，硅清洗技術經歷了持續(xù)的發(fā)展改進，包括早期用氣相等效物替代在濕化學品中進行的部分清洗操作。難以置信的是，現代先進的Si清洗仍然依賴于大體上同一組化學溶液，不過它們的制備和送至晶圓的方法與最初提出的已大不相同。此外，傳統(tǒng)上用濕清洗化學品做的表面選擇清洗/修整功能現在是在氣相中做的。
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工商網監(jiān)
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