標簽 > 刻蝕
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刻蝕,英文為Etch,它是半導體制造工藝,微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻 [1] 相聯系的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。所謂刻蝕,實際上狹義理解就是光刻腐蝕,先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理,然后通過其它方式實現腐蝕處理掉所需除去的部分。
650 – 900 MHz 高增益和線性 700 – 1000 MHz 高增益和線 具有省電模式的 1700 – 2200 集成整數 N 分頻 PLL 和 VCO 1400 至 2000 MHz 寬帶、應 1700 至 2700 MHz 寬帶、應 1930–1990 MHz 高性能 VC 890-960 MHz 壓控振蕩器 無雜散、50 MHz 至 2.1 GHz GaAs IC 1 位數字衰減器 15 DC-3.0 GHz 六位數字衰減器,帶 0.7-4.0 GHz 五位數字衰減器,
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