格芯又賣廠：將旗下光掩膜業(yè)務(wù)出售給日本Toppan公司
今天，<電子發(fā)燒友>在Globalfoundries公司（簡稱GF，中文名：格芯）的官網(wǎng)上發(fā)現(xiàn)，該公司宣布將旗下的光掩膜業(yè)務(wù)出售給日本Toppan公司的子公司Toppan Photomasks，這是格芯近年來出售多座晶圓廠之后，再一次出售相關(guān)業(yè)務(wù)。
圖1：格芯出售光掩膜工廠的新聞稿。（圖片來源：格芯官網(wǎng)）
在格芯的官網(wǎng)上，我們可以看到其最近幾次出售工廠的新聞。比如，時(shí)間比較近的還有在今年4月22日，將其位于美國紐約州東菲什基爾的Fab 10 300mm（12寸）工廠，以總價(jià)4.3億美元出售給了安森美半導(dǎo)體。
而在年初的1月31日，格芯將其位于新加坡Tampines的Fab 3E 200mm（3寸）晶圓廠廠房、廠務(wù)設(shè)施、機(jī)械設(shè)備，以及MEMS知識產(chǎn)權(quán)與業(yè)務(wù)作價(jià)2.36億美元一并出售給了世界先進(jìn)積體電路股份有限公司。當(dāng)時(shí)Fab 3E的月產(chǎn)能約為3.5萬片8寸晶圓。
格芯公司是2009年AMD將自身的半導(dǎo)體制造業(yè)務(wù)剝離出來后，與中東石油土豪的投資基金ATIC共同投資成立的。
后來，格芯又收購了IBM公司的半導(dǎo)體業(yè)務(wù)，現(xiàn)在做成了全球第二大晶圓代工廠，AMD的14/12nm工藝銳龍及Polaris GPU芯片就是他們代工的。
不過，即便做到了全球第二，格芯的日子并不好過，半導(dǎo)體先進(jìn)工藝研發(fā)、生產(chǎn)是個(gè)非常燒錢的行業(yè)，臺積電能靠著搶先量產(chǎn)10nm、7nm獲得蘋果、高通、海思等公司的大額訂單，5年投資500億美元也撐得下去，但臺積電之外的其他晶圓代工廠都掙扎在生存線上，能賺錢的就是過的不錯(cuò)的了。
多年來格芯一直在虧損，以致于母公司阿布扎比穆巴達(dá)拉投資基金都撐不住了，要求他們改革，迫不得已格芯走上了精簡瘦身的道路，先是去年8月份宣布停止燒錢的7nm及以下工藝研發(fā)，之后作價(jià)2.4億美元出售了新加坡的Fab3e晶圓廠、4.2億出售美國紐約州的12英寸晶圓廠，另外在中國成都投資近百億美元的晶圓廠也要黃了，項(xiàng)目陷入了停滯。
現(xiàn)在出售mask光掩膜（也稱光罩）業(yè)務(wù)是他們進(jìn)一步削減成本的動(dòng)作，這部分業(yè)務(wù)實(shí)際上是格芯收購的IBM德國德累斯頓晶圓廠的遺產(chǎn)，Toppan公司本來也是他們光掩膜業(yè)務(wù)的重要合作伙伴，是GF旗下12/14nm工藝的光掩膜主力供應(yīng)商之一。
圖2：格芯認(rèn)證的掩膜機(jī)構(gòu)。
不過，這次格芯并沒有透露本次交易的具體金額。出售給Toppan公司之后他們還要跟后者繼續(xù)合作，由Toppan供應(yīng)美國晶圓廠的光掩膜產(chǎn)品及服務(wù)。
作為協(xié)議的一部分，雙方之前合資的德累斯頓先進(jìn)光掩膜中心AMTC將會(huì)接受格芯工廠的光掩膜制造設(shè)備等資產(chǎn)，接下來幾個(gè)月里雙方會(huì)合作完成這個(gè)轉(zhuǎn)移。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
安森美
+關(guān)注
關(guān)注
32文章
1790瀏覽量
93084 -
晶圓廠
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
638瀏覽量
38453 -
掩膜
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
28瀏覽量
11852 -
GlobalFoundries
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
58瀏覽量
39356 -
格芯
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
239瀏覽量
26300
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
投資筆記：半導(dǎo)體掩膜版的投資邏輯分析（含平板顯示）（13634字）
版：市場及行業(yè)特征七、掩膜版競爭格局八、掩膜版未來趨勢九、掩膜版重點(diǎn)企業(yè)介紹一、什么是
英特爾向銀湖資本出售Altera 51%股份
英特爾公司宣布已達(dá)成最終協(xié)議，將旗下 Altera 業(yè)務(wù) 51% 的股份出售給全球技術(shù)投資巨頭銀湖資本(Silver Lake)。
鉻板掩膜和光刻掩膜的區(qū)別
掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展，特別是智能手機(jī)、平板電腦、車載電子等市場的快速增長
正性光刻對掩膜版有何要求
正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個(gè)方面： 基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因?yàn)樗哂休^低的熱膨脹系數(shù)，能夠在溫度變化時(shí)保
友達(dá)將晶材廠整體出售給美光
近日，友達(dá)董事長彭雙浪宣布了一項(xiàng)重要決策：董事會(huì)已決議將友達(dá)晶材東側(cè)廠區(qū)出售給美光半導(dǎo)體公司。加上去年已經(jīng)出售的西側(cè)廠區(qū)，整個(gè)友達(dá)晶材廠區(qū)的總售價(jià)高達(dá)37.5億元新臺幣。 據(jù)彭雙浪介紹，友達(dá)晶材將在
清洗EUV掩膜版面臨哪些挑戰(zhàn)
本文簡單介紹了極紫外光（EUV）掩膜版的相關(guān)知識，包括其構(gòu)造與作用、清洗中的挑戰(zhàn)以及相關(guān)解決方案。
正性光刻對掩膜版的要求
在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求： 圖案準(zhǔn)確性 在正性光刻中，
微流控SU8掩膜版的制作方法
微流控SU8掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜的工藝過程，涉及到多個(gè)步驟。以下是詳細(xì)的制作流程： 1. 掩膜版設(shè)計(jì) 原理圖設(shè)計(jì)：根據(jù)微流控芯片的設(shè)計(jì)要求，進(jìn)行原理圖設(shè)計(jì)，分析元件需接線方向，設(shè)計(jì)需
光刻掩膜和光刻模具的關(guān)系
光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用，但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩
光刻掩膜版制作流程
光刻掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜且精密的過程，涉及到多個(gè)步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程： 1. 設(shè)計(jì)與準(zhǔn)備 在開始制作光刻掩
掩膜版的技術(shù)迭代
掩膜版產(chǎn)品誕生至今約70多年，是電子制造行業(yè)中使用的生產(chǎn)制具。由于掩膜版技術(shù)演變較慢，下游運(yùn)用廣泛且不同行業(yè)對掩
掩膜版與光刻膠的功能和作用
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側(cè)重，但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 掩膜版?，也稱為光罩、光掩
半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程
半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程 掩膜版（Photomask）又稱光罩，是液晶顯示器、半導(dǎo)體等制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具。光掩
微流控光刻掩膜制作
微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個(gè)步驟，?包括設(shè)計(jì)、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等，?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先，?設(shè)計(jì)階段是制作掩
工商網(wǎng)監(jiān)
評論