福建安芯半導(dǎo)體再次出貨一臺光刻機
集微網(wǎng)消息，近日，福建安芯半導(dǎo)體科技有限公司出貨一臺價值近千萬元的光刻機，現(xiàn)已交付國內(nèi)某研究所用于cmos領(lǐng)域研究。
據(jù)中國芯谷報道，光刻機設(shè)備為該研究所在cmos領(lǐng)域研發(fā)提供了重要支撐，此外，雙方將就半導(dǎo)體領(lǐng)域研發(fā)進行深入對接，共同推動產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
福建安芯半導(dǎo)體是泉州芯谷南安分園區(qū)引進的首家高科技半導(dǎo)體設(shè)備公司，主要經(jīng)營黃光設(shè)備設(shè)備翻新、改造和安裝調(diào)試，自主研發(fā)新黃光和蝕刻設(shè)備的銷售及技術(shù)支持，并提供半導(dǎo)體整線解決方案，產(chǎn)品涉獵集成電路、LED、MEMS、顯示面板、光伏等黃光設(shè)備領(lǐng)域。
今年3月13日，福建安芯半導(dǎo)體一臺值近千萬元的光刻機出貨，交付杭州海康威視公司用于生產(chǎn)耳溫槍。據(jù)泉州網(wǎng)報道，當(dāng)時福建安芯半導(dǎo)體總經(jīng)理張琪表示，目前我們尚不能完全自主研發(fā)，但通過改造、提升，實現(xiàn)了60%至70%的國產(chǎn)化。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1164瀏覽量
48168
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
蘇州芯矽科技：半導(dǎo)體清洗機的堅實力量
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的宏大版圖中，蘇州芯矽電子科技有限公司宛如一座默默耕耘的燈塔，雖低調(diào)卻有著不可忽視的光芒，尤其在半導(dǎo)體清洗機領(lǐng)域，以其穩(wěn)健的步伐
發(fā)表于 06-05 15:31
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進才是最佳選擇，以下介紹該進后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座如何安裝？
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高
泰芯半導(dǎo)體年出貨超1億顆
銷量創(chuàng)新高，再創(chuàng)新佳績！億程碑，新起航！泰芯半導(dǎo)體年出貨超1億顆！
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀(jì)，摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)
光刻機的工作原理和分類
，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高，光刻機通過一系列復(fù)雜的技術(shù)手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖
一文看懂光刻機的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)
，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、
一文了解光刻機成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)
精密機械方面涉及到納米精度的位移控制技術(shù)等，這些技術(shù)發(fā)展中涉及的加工和檢測設(shè)備也都是各時代最尖端的設(shè)備，因此高精度光刻機也被稱為“人類歷史上最精密”的機器之一。?? 光刻機發(fā)展歷程 半導(dǎo)體
中國半導(dǎo)體的鏡鑒之路
日本企業(yè)，除了索尼是1951年時候才創(chuàng)立的新興企業(yè)，其他5個企業(yè)都是世界上比較古老的大型工業(yè)集團，所以 日本的模式是由大型工業(yè)集團進軍半導(dǎo)體，去與美國競爭， 其中有一個大家都知道，尼康。尼康的光刻機現(xiàn)在
發(fā)表于 11-04 12:00
國產(chǎn)EOS技術(shù)突破，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)注入新活力！
在半導(dǎo)體制造這一高精尖領(lǐng)域，電子束量測檢測設(shè)備無疑是除光刻機之外技術(shù)難度最高的設(shè)備類別之一。它深度參與光刻環(huán)節(jié)，對制程節(jié)點極為敏感
工商網(wǎng)監(jiān)
評論