2nm芯片最新進(jìn)展 臺積電再曝2nm芯片新進(jìn)展
前不久，臺積電、三星電子已經(jīng)爆出公司2nm芯片新進(jìn)展，紛紛的尋求下一代 EUV 光刻機，今年臺積電將實現(xiàn)3nm的量產(chǎn)，再往后就是在2025年量產(chǎn)2nm了，這也意味著現(xiàn)在2nm 技術(shù)戰(zhàn)已經(jīng)打響。
2021年5月份，IBM正式宣布突破2nm，IBM研制出2nm芯片的消息一度引發(fā)業(yè)內(nèi)轟動。2nm制程的芯片可以用于量子計算機、數(shù)據(jù)中心和智能手機等產(chǎn)品，2nm還將采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)。
三星比臺積電更早確認(rèn)將采用GAAFET架構(gòu)，另外臺積電還表示，將在2024年引進(jìn)ASML阿斯麥下一代最強、最先進(jìn)的光刻機，即高數(shù)值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV）用來制造2nm芯片技術(shù)，很顯然臺積電方面顯然對自己的技術(shù)實力還是充滿信心的，并不擔(dān)心自己會被超越。
本文綜合整理自Tech情報局 互聯(lián)狗 搜狐
審核編輯：彭靜
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