9.5.5 極紫外光掩模∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
Extreme Ultraviolet Lithography Photomask（EUV）
撰稿人：中芯國(guó)際集成電路制造有限公司 郭貴琦
審稿人：中芯國(guó)際集成電路制造有限公司 時(shí)雪龍
9.5 光掩模和光刻膠材料
第9章 集成電路專用材料
《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊(cè)
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集成電路
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