華為公開(kāi)“半導(dǎo)體器件”專利：提升場(chǎng)效應(yīng)晶體管電流驅(qū)動(dòng)能力
華為技術(shù)有限公司最近增加了多項(xiàng)專利信息，其中一項(xiàng)是“半導(dǎo)體器件”，公開(kāi)號(hào)碼為cn116868342a。
根據(jù)專利摘要，該公開(kāi)是關(guān)于半導(dǎo)體元件及其制造方法的。半導(dǎo)體器件包括電裝效應(yīng)晶體管。電場(chǎng)效應(yīng)晶體管包括柵極、漏極、源極和氧化物半導(dǎo)體溝道。漏極和源極分別位于氧化物半導(dǎo)體通道的兩端。漏極和源極分別接觸氧化物半導(dǎo)體通道的多個(gè)表面，增加源極和泄漏極和氧化物半導(dǎo)體溝道的接觸面積，減少接觸電阻。由于半導(dǎo)體器件的接觸電阻降低，在相同電壓下的電流會(huì)增加，從而提高差額效應(yīng)晶體管的電流驅(qū)動(dòng)能力和響應(yīng)速度。
據(jù)了解，截至2022年底，華為擁有有效授權(quán)專利超過(guò)12萬(wàn)項(xiàng)，主要分布在中國(guó)、歐洲、美洲、亞太、中東、非洲。華為在中國(guó)和歐洲分別擁有4萬(wàn)多項(xiàng)專利，在美國(guó)擁有22000多項(xiàng)專利。
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