來源:半導(dǎo)體芯科技編譯
投資半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)新的生產(chǎn)設(shè)備
Jenoptik公司計(jì)劃投資數(shù)億歐元,為目前在德累斯頓建設(shè)的高科技工廠建造最先進(jìn)的系統(tǒng)。新型電子束光刻系統(tǒng)(E-Beam)將用于為半導(dǎo)體和光通信領(lǐng)域的客戶制造高精度微型光學(xué)元件。制造商是位于德國耶拿的電子束技術(shù)專家Vistec Electron Beam GmbH。該系統(tǒng)將于2025年初交付。
以最高精度創(chuàng)建最小的結(jié)構(gòu)
這種類型的電子束光刻系統(tǒng)可以在直徑達(dá)300毫米的襯底上以10納米范圍(約為頭發(fā)絲的1/2,000)精度“寫入”結(jié)構(gòu)。
Vistec SB3050-2電子束光刻系統(tǒng)基于所謂的可變形狀光束原理,即使是大面積的結(jié)構(gòu)也可以高精度且有效地構(gòu)建。Vistec SB3050-2的進(jìn)一步特點(diǎn)是高度自動(dòng)化以及可用襯底的靈活性,使其能夠在工業(yè)環(huán)境中使用。該系統(tǒng)配備了單元投影功能,為微光學(xué)應(yīng)用開辟了更多可能性。
Jenoptik自2007年以來一直活躍在德累斯頓。通過在德累斯頓機(jī)場公園新建高科技工廠,該公司正在鞏固其目前分布在幾個(gè)小型外部基地的生產(chǎn),同時(shí)擴(kuò)大其產(chǎn)能。新工廠的潔凈室生產(chǎn)面積將達(dá)到2,000平方米,潔凈室面積達(dá)到ISO 5和3級,滿足無振動(dòng)和溫度穩(wěn)定性的最高要求。
整個(gè)工廠都考慮到了高環(huán)境標(biāo)準(zhǔn):Jenoptik正在努力通過“KfW 40標(biāo)準(zhǔn)”和“LEED黃金標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證”來滿足目前在可持續(xù)性方面最全面、最嚴(yán)格的建筑標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),將創(chuàng)造高質(zhì)量的就業(yè)機(jī)會(huì),現(xiàn)場員工人數(shù)將增加至120多人。薩克森州首府將因此成為微光學(xué)行業(yè)的主要所在地。
審核編輯 黃宇
-
光刻
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
344瀏覽量
30636 -
電子束
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
112瀏覽量
13566
發(fā)布評論請先 登錄
掃描電鏡在微納加工中的應(yīng)用

光刻工藝中的顯影技術(shù)
光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀
電子束半導(dǎo)體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
一文詳解電子束光刻技術(shù)

APEX經(jīng)濟(jì)型減速器——助力TETA電子束焊機(jī)高性價(jià)比焊接

FIB-SEM雙束系統(tǒng):多領(lǐng)域應(yīng)用的前沿技術(shù)

泊蘇 Type C 系列防震基座在半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司

聚焦離子束系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)、工作原理及聚焦離子束雙束系統(tǒng)

雙束系統(tǒng)(FIB-SEM)在微電子行業(yè)的應(yīng)用探索

聚焦離子束一電子束(FIB-SEM)雙束系統(tǒng)原理

電子束光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)對納米結(jié)構(gòu)特征的精細(xì)控制

東方晶源深耕電子束量測檢測核心技術(shù) “三箭齊發(fā)”新一代EOS上“機(jī)”

評論