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半導(dǎo)體材料“3C-SiC”的晶體純度和質(zhì)量進(jìn)展

芯長征科技 ? 來源:半導(dǎo)體芯聞 ? 作者:半導(dǎo)體芯聞 ? 2022-12-21 10:19 ? 次閱讀
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2022年12月,來自大阪公立大學(xué)、伊利諾伊大學(xué)、Air Water、東北大學(xué)和佐治亞理工學(xué)院的研究小組宣布了半導(dǎo)體材料“3C-SiC”(立方碳化硅)的晶體純度和質(zhì)量進(jìn)展。

SiC 作為下一代功率半導(dǎo)體的材料備受關(guān)注,其實(shí)際應(yīng)用正在取得進(jìn)展。多為六方棱柱晶的“4H-SiC”和“6H-SiC”。與這些相比,“3C-SiC”具有更簡單的晶體結(jié)構(gòu),并有望具有更高的熱導(dǎo)率。而國外制造的3C-SiC的導(dǎo)熱系數(shù)為90W/m·K,低于6H-SiC的實(shí)測值(320W/m·K)。

這次,合作團(tuán)隊(duì)使用 Air Water 開發(fā)的 3C-SiC 晶體,評估了熱導(dǎo)率并進(jìn)行了原子級分析。具體而言,首先,在硅(Si)基板上形成厚度100μm的3C-SiC。之后,去除 Si 以制造 3C-SiC 自支撐襯底。

此外,使用TEM(透射電子顯微鏡)和X射線搖擺曲線(XRC)方法評估原子排列和結(jié)晶度。沒有觀察到納米級晶體缺陷,證實(shí)了原子是規(guī)則排列的。還發(fā)現(xiàn) XRC 峰很窄,晶體質(zhì)量很高。

隨后,使用時域熱反射器方法評估了3C-SiC自支撐襯底和厚度為1μm的3C-SiC薄膜的熱導(dǎo)率。結(jié)果,自支撐基板具有超過500W/m·K的高度各向同性導(dǎo)熱率。在大直徑材料中導(dǎo)熱系數(shù)僅次于金剛石。我們還發(fā)現(xiàn),厚度為 1 μm 的 3C-SiC 薄膜具有比相同厚度的金剛石更高的導(dǎo)熱系數(shù)。此外,3C-SiC/Si 界面的熱導(dǎo)率在異種材料界面中表現(xiàn)出最高值。

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3C-SiC 比金剛石便宜,可用于制造大直徑晶圓。其他主要特性包括能夠在硅襯底上形成晶體以及 3C-SiC/Si 界面的高導(dǎo)熱性。

此項(xiàng)研究的成果有:大阪公立大學(xué)工學(xué)研究科副教授梁健波和重川直樹教授;美國伊利諾伊大學(xué)程哲博士和David G. Cahill教授;Air Water的Keisuke Kawamura博士;佐治亞理工學(xué)院研究員 Hiroshi Ohno、Kosuke Nagai 教授和 Samuel Graham 教授。

審核編輯 :李倩

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原文標(biāo)題:3D SiC,日本等重磅宣布

文章出處:【微信號:芯長征科技,微信公眾號:芯長征科技】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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