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鎵仁半導(dǎo)體成功實(shí)現(xiàn)VB法4英寸氧化鎵單晶導(dǎo)電摻雜

第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) ? 來源:第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) ? 2025-02-14 10:52 ? 次閱讀
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VB法4英寸氧化鎵單晶導(dǎo)電型摻雜

2025年1月,杭州鎵仁半導(dǎo)體有限公司(以下簡稱“鎵仁半導(dǎo)體”)基于自主研發(fā)的氧化鎵專用晶體生長設(shè)備進(jìn)行工藝優(yōu)化,采用垂直布里奇曼(VB)法成功實(shí)現(xiàn)4英寸氧化鎵單晶的導(dǎo)電型摻雜,為下游客戶提供更加豐富的產(chǎn)品選擇,助力行業(yè)發(fā)展。該VB法氧化鎵長晶設(shè)備及工藝包已全面開放銷售。

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【圖1】鎵仁半導(dǎo)體VB法4英寸導(dǎo)電型氧化鎵單晶底面

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【圖2】 鎵仁半導(dǎo)體VB法4英寸導(dǎo)電型氧化鎵單晶頂面

2025年1月,鎵仁半導(dǎo)體在VB法氧化鎵單晶生長方面實(shí)現(xiàn)了直徑4英寸的突破【鎵仁半導(dǎo)體成功制備VB法(非銥坩堝)4英寸氧化鎵單晶】,之后在此基礎(chǔ)上進(jìn)一步開展導(dǎo)電型摻雜工作,研發(fā)團(tuán)隊(duì)僅用一爐次即實(shí)現(xiàn)了4英寸導(dǎo)電型氧化鎵單晶生長,且長晶結(jié)果可穩(wěn)定重復(fù)。這充分說明了,鎵仁半導(dǎo)體自研氧化鎵專用晶體生長設(shè)備及其配套的晶體生長工藝,在VB法氧化鎵單晶生長方面具有高適配性、高穩(wěn)定性、高容錯(cuò)率的優(yōu)勢。

本次生長4英寸導(dǎo)電型氧化鎵單晶仍沿用了細(xì)籽晶誘導(dǎo)+錐面放肩技術(shù),籽晶與晶體軸向平行于[010]晶向,可加工4英寸(010)面襯底。

導(dǎo)電型(010)面襯底具有以下優(yōu)勢:

1、導(dǎo)電型(010)襯底具有優(yōu)良的電學(xué)性能和高熱導(dǎo)率,為器件設(shè)計(jì)提供了更多的靈活性,能夠?qū)崿F(xiàn)更好的電學(xué)性能和熱管理,適合SBD等高功率器件的應(yīng)用;

2、(010)面襯底具有較快的外延生長速率,有利于厚膜外延,是外延優(yōu)選晶面。目前,鎵仁半導(dǎo)體已推出晶圓級(jí)(010)氧化鎵單晶襯底產(chǎn)品,該產(chǎn)品面向科研市場,滿足科研領(lǐng)域?qū)?010)襯底的需求,促進(jìn)業(yè)內(nèi)產(chǎn)學(xué)研協(xié)同合作。

VB法的優(yōu)勢

VB法在氧化鎵單晶生長方面具有顯著優(yōu)勢,正成為行業(yè)的新寵,國內(nèi)外氧化鎵襯底制造商均已開始著手布局。【國外頭部襯底廠商VB法長晶成果鏈接:https://www.novelcrystal.co.jp/eng/2023/2340/】

優(yōu)勢1:VB法適用于生長軸向平行于[010]晶向的氧化鎵單晶,有利于加工出大尺寸(010)面單晶襯底。

優(yōu)勢2:VB法不使用貴金屬銥坩堝,無需考慮坩堝的氧化損耗,與常見使用銥坩堝的生長方法相比,成本大幅降低。

優(yōu)勢3:VB法可采用空氣氣氛生長單晶,能夠有效抑制氧化鎵的高溫分解,減少因坩堝腐蝕晶體中的夾雜物等缺陷,提升晶體質(zhì)量。

優(yōu)勢4:VB法溫度梯度小,因晶體熱應(yīng)力誘生的位錯(cuò)數(shù)量少,晶體質(zhì)量高。

優(yōu)勢5:VB法晶體在坩堝內(nèi)生長,晶體直徑即坩堝直徑,因此無需控制晶體直徑,技術(shù)難度低且穩(wěn)定性高,易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制。

鎵仁半導(dǎo)體自研氧化鎵專用晶體生長設(shè)備2.0版

2024年9月,鎵仁半導(dǎo)體推出了首臺(tái)自研氧化鎵專用晶體生長設(shè)備【重磅發(fā)布 | 鎵仁半導(dǎo)體推出氧化鎵專用晶體生長設(shè)備】,不僅能夠滿足氧化鎵生長對(duì)高溫和高氧環(huán)境的需求,而且能夠進(jìn)行全自動(dòng)化晶體生長,減少了人工干預(yù),顯著提高了生產(chǎn)效率和晶體質(zhì)量。

鎵仁半導(dǎo)體研發(fā)團(tuán)隊(duì)基于初代設(shè)備進(jìn)行了迭代升級(jí),通過優(yōu)化自動(dòng)控溫系統(tǒng)與內(nèi)部熱場結(jié)構(gòu),不僅擴(kuò)大了晶體尺寸、提高了晶體生長穩(wěn)定性,還大大降低了晶體生長成本、提高了設(shè)備使用壽命,在氧化鎵晶體生長及產(chǎn)業(yè)化方面具有突出優(yōu)勢。此外,該設(shè)備通過工藝控制可獲得多種不同晶面的大尺寸單晶,且支持向更大尺寸單晶的升級(jí),以適應(yīng)不斷發(fā)展的外延技術(shù)和器件需求。

鎵仁半導(dǎo)體氧化鎵專用晶體生長設(shè)備2.0版的問世將助力國內(nèi)氧化鎵行業(yè)再上新臺(tái)階。鎵仁半導(dǎo)體也可以提供多種晶面的生長工藝文件,實(shí)現(xiàn)高度個(gè)性化的產(chǎn)品定制,滿足高校、科研院所、企業(yè)客戶對(duì)氧化鎵晶體生長的科研、生產(chǎn)等各項(xiàng)需求。

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原文標(biāo)題:新突破|鎵仁半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)VB法4英寸氧化鎵單晶導(dǎo)電型摻雜

文章出處:【微信號(hào):第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),微信公眾號(hào):第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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