動(dòng)態(tài)
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發(fā)布了文章 2024-04-25 11:38
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發(fā)布了文章 2024-04-24 11:48
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發(fā)布了文章 2024-04-23 10:49
利用 Ga-FIB 洞察 SiC 和 GaN 功率半導(dǎo)體結(jié)
盡管傳統(tǒng)高壓平面MOSFET取得了進(jìn)步,但由于阻斷或漏源擊穿電壓因厚度、摻雜和幾何形狀而變化,因此局限性仍然存在。本文將講解超級(jí)結(jié)MOSFET(例如意法半導(dǎo)體的MDmesh技術(shù))通過晶圓上又深又窄的溝槽來應(yīng)對這些挑戰(zhàn)。01該技術(shù)非常適合開關(guān)模式電源,采用超級(jí)結(jié)多漏極結(jié)構(gòu)來降低漏源壓降。高漏電或軟擊穿電壓等問題可能是由塊狀形成中的污染物或缺陷引??起的。因此,791瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2024-04-22 13:52
臺(tái)灣晶圓代工與IC封裝測試2023年均為全球第一
臺(tái)灣作為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)領(lǐng)航者,匯聚著眾多全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體公司。根據(jù)駐新加坡臺(tái)北代表處發(fā)布最新一期《2023年臺(tái)灣與全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈回顧》報(bào)告,在晶圓代工和集成電路(IC)封裝測試方面,2023年臺(tái)灣均位居第一。報(bào)告稱,臺(tái)積電在全球半導(dǎo)體晶圓代工市場上保持優(yōu)勢地位,其產(chǎn)值之市占率從2022年的55.4%,提升至2023年的58.9%,并在2023年第四季達(dá)到6 -
發(fā)布了文章 2024-04-22 13:51
氮化鎵(GaN)功率集成電路(IC)開發(fā)的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)
氮化鎵(GaN)功率器件以離散形式已在電源充電器的應(yīng)用領(lǐng)域得到廣泛采用。在電源轉(zhuǎn)換應(yīng)用中,GaN高遷移率電子晶體管(HEMT)的諸多材料和器件優(yōu)勢也推動(dòng)了它在多樣化應(yīng)用中的電源轉(zhuǎn)換使用,例如數(shù)據(jù)中心、可再生能源和電動(dòng)汽車。在本文中,我們將探討創(chuàng)建GaN功率集成電路(ICs)的一些優(yōu)勢和挑戰(zhàn)。01創(chuàng)造GaN功率IC的動(dòng)機(jī)基于硅的功率管理集成電路(PMICs)被 -
發(fā)布了文章 2024-04-19 13:59
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發(fā)布了文章 2024-04-19 13:55
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發(fā)布了文章 2024-04-18 11:50
阿斯麥(ASML)公司首臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)突破性成果
在半導(dǎo)體領(lǐng)域,技術(shù)創(chuàng)新是推動(dòng)整個(gè)行業(yè)向前發(fā)展的重要?jiǎng)恿Α=眨商m阿斯麥(ASML)公司宣布,成功打造了首臺(tái)采用0.55數(shù)值孔徑(NA)投影光學(xué)系統(tǒng)的高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻機(jī),并已經(jīng)成功印刷出首批圖案。這一重要成就,不僅標(biāo)志著ASML公司技術(shù)創(chuàng)新的新高度,也為全球半導(dǎo)體制造行業(yè)的發(fā)展帶來了新的契機(jī)。目前,全球僅有兩臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV -
發(fā)布了文章 2024-04-18 11:49
GaN功率HEMT制造中的缺陷及其表征方法
氮化鎵具有許多內(nèi)在材料優(yōu)勢,如寬能隙和高電子遷移率。當(dāng)用作橫向高電子遷移率晶體管(HEMT)器件時(shí),這些特性可用于獲得功率轉(zhuǎn)換性能優(yōu)勢,因?yàn)槠錈o反向恢復(fù)損失且電容相對較小。隨著這項(xiàng)技術(shù)在更廣泛的應(yīng)用范圍內(nèi)推廣,詳細(xì)理解提高產(chǎn)量和可靠性的根本原因至關(guān)重要。本文中,我們總結(jié)了在GaN晶圓加工過程中常見的一些缺陷,以及用于檢測這些缺陷的表征技術(shù)。01氮化鎵晶體結(jié)構(gòu) -
發(fā)布了文章 2024-04-17 13:47