2025年3月27、28日，在上海舉辦的國際集成電路展覽會暨研討會（IIC Shanghai 2025）上，本土EDA企業(yè)英諾達(dá)攜其創(chuàng)新技術(shù)成果亮相，并憑借在低功耗設(shè)計(jì)領(lǐng)域的突破性貢獻(xiàn)，榮獲“2025年中國IC設(shè)計(jì)成就獎——年度技術(shù)突破EDA公司獎”。

算法驅(qū)動早期功耗優(yōu)化，ERPE填補(bǔ)國內(nèi)空白

在中國IC領(lǐng)袖峰會論壇上，英諾達(dá)EDA研發(fā)副總裁李英夢博士發(fā)表了題為《算法驅(qū)動早期功耗優(yōu)化——加速后摩爾時代芯片能效躍遷》的演講，詳細(xì)介紹了國內(nèi)首款RTL功耗優(yōu)化EDA工具——EnFortius凝鋒RPE（ERPE）。該工具通過內(nèi)建核心算法，在設(shè)計(jì)早期階段即可精準(zhǔn)識別功耗優(yōu)化關(guān)鍵點(diǎn)，顯著降低后期迭代成本，助力芯片設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)能效目標(biāo)。

李英夢博士表示：“ERPE的推出標(biāo)志著國產(chǎn)EDA工具在低功耗設(shè)計(jì)領(lǐng)域的重要突破。其核心優(yōu)勢在于將功耗分析與優(yōu)化前移至RTL階段，為設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)提供切實(shí)可行的優(yōu)化建議，從而縮短開發(fā)周期并提升芯片競爭力。”

今年，英諾達(dá)再度榮登電子工程專輯評定的TOP 10 EDA公司榜單，并憑借卓越的技術(shù)實(shí)力一舉摘得年度技術(shù)突破EDA公司獎。ERPE產(chǎn)品的創(chuàng)新突破，源于英諾達(dá)在低功耗與靜態(tài)驗(yàn)證工具領(lǐng)域的持續(xù)深耕，以及40余項(xiàng)發(fā)明專利支撐的核心技術(shù)。公司通過自主研發(fā)的EDA解決方案，為芯片設(shè)計(jì)的左移和能效提升提供關(guān)鍵支持，推動國產(chǎn)EDA技術(shù)從“可用”向“好用”躍進(jìn)。

關(guān)于IIC Shanghai

作為國內(nèi)集成電路領(lǐng)域最具影響力的年度盛會之一，IIC Shanghai聚焦全球半導(dǎo)體技術(shù)趨勢與產(chǎn)業(yè)生態(tài)，匯聚產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)，展示尖端產(chǎn)品與解決方案，為行業(yè)搭建交流合作平臺。

關(guān)于英諾達(dá)

英諾達(dá)（成都）電子科技有限公司是一家由行業(yè)頂尖資深人士創(chuàng)立的本土EDA企業(yè)，公司堅(jiān)持以客戶需求為導(dǎo)向，幫助客戶實(shí)現(xiàn)價(jià)值最大化，為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供卓越的EDA解決方案。公司的長期目標(biāo)是通過EDA工具的研發(fā)和上云實(shí)踐，參與國產(chǎn)EDA完整工具鏈布局并探索適合中國國情的工業(yè)軟件上云的路徑與模式，賦能半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。公司的主營業(yè)務(wù)包括：EDA軟件研發(fā)、IC設(shè)計(jì)云解決方案以及IC設(shè)計(jì)服務(wù)。